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    光刻機(jī)概念股 +訂閱 龍頭股:藍(lán)英裝備

    光刻機(jī)概念股

    光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻,所以叫 Mask Alignment System。

    光刻機(jī)分為無(wú)掩模光刻機(jī)和有掩模光刻機(jī)。無(wú)掩模光刻機(jī)可分為電子束直寫(xiě)光刻機(jī)、離子束直寫(xiě)光刻機(jī)、激光直寫(xiě)光刻機(jī)。電子束直寫(xiě)光刻機(jī)可以用于高分辨率掩模版以及集成電路原型驗(yàn)證芯片等的制造,激光直寫(xiě)光刻機(jī)一般是用于小批量特定芯片的制造。有掩模光刻機(jī)分為接觸/接近式光刻機(jī)和投影式光刻機(jī)。接觸式光刻和接近式光刻機(jī)出現(xiàn)的時(shí)期較早,投影光刻機(jī)技術(shù)更加先進(jìn),圖形比例不需要為1:1,減低了掩膜板制作成本,目前在先進(jìn)制程中廣泛使用。隨著曝光光源的改進(jìn),光刻機(jī)工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)不斷縮小。

    光刻機(jī)概念股

    成分股張江高科、上海電氣、上海新陽(yáng)、蘇大維格、勝利精密、南大光電、藍(lán)英裝備、飛凱材料、容大感光、晶瑞股份、怡達(dá)股份、華特氣體。
    我國(guó)光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀及前景如何

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